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J-GLOBAL ID：201002235527049938   整理番号：10A0459445

CeO_x-SiO₂-TiO₂薄膜のゾル-ゲル合成と特性評価

Sol-Gel Synthesis and Characterization of CeO_x-SiO₂-TiO₂ Thin Films

著者 (2件)： YANG Huaming (Central South Univ., Changsha, CHN) ,  TAO Qiufen (Central South Univ., Changsha, CHN)
資料名： Journal of the American Ceramic Society  (Journal of the American Ceramic Society)
巻： 93  号： 4  ページ： 1056-1061  発行年： 2010年04月 
JST資料番号： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CeO_x-SiO₂-TiO₂(CST)膜をゾル-ゲルディップコーティング法でガラス基板に作製し,光学特性と親水性を調べた。XPSからTiはTi⁴⁺で存在し,Ce³⁺とCe⁴⁺が共存した。か焼温度が500°Cと低いので基板からのSiの拡散はなく,SiはCST膜表面(深さ0.5~2.5nm)に存在した。AFMからCST膜は表面粗さが1.95nmで,TiO₂膜に比べて平坦であった。UV-可視分光からCe/Ti=3~8%はレッドシフトを示した。光学的バンドギャップはSi/Ti=10%,Ce/Ti=5%で2.87eV(Ti:3.23eV)であった。30分のUV照射後の水に対する接触角はSi/Ti=20%,Ce/Ti=5%で3°で,超親水性を示した。

シソーラス用語： *酸化セリウム ,  *酸化ケイ素 ,  *酸化チタン ,  *ゾル-ゲル法 ,  チタン化合物 ,  アルコラート ,  ジケトン ,  ケイ素化合物 ,  塩化セリウム ,  基板 ,  ガラス ,  浸漬塗装 ,  熱処理 ,  *薄膜 ,  セラミック膜 ,  紫外可視吸収スペクトル ,  *光学ギャップ ,  表面粗さ ,  接触角 ,  *親水性 ,  紫外線照射 ,  *キャラクタリゼーション ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル ,  脂肪族ケトン
準シソーラス用語： CST ,  光学バンドギャップ ,  浸漬コーティング ,  超親水性

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (3件)： TEOS ,  アセチルアセトン ,  テトラブトキシチタン(IV)

タイトルに関連する用語 (5件)： SiO2 ,  TiO2 ,  薄膜 ,  ゾル-ゲル合成 ,  特性評価