文献
J-GLOBAL ID:201002235881066270   整理番号:10A0760248

マグネトロンスパッタリングにより作製したポリテトラフルオロエチレン-金属ナノ複合体膜の残留応力

Residual stress in polytetrafluoroethylene-metal nanocomposite films prepared by magnetron sputtering
著者 (8件):
資料名:
巻: 518  号: 21  ページ: 5944-5949  発行年: 2010年08月31日 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
本研究では,双マグネトロンスパッタリングにより作製されたポリテトラフルオロエチレン(PTFE)およびPTFEに基づく銀(Ag)複合体膜の残留応力および熱安定性を評価した。PTFEのスパッタリングにはRFマグネトロンシステム,金属に対してはDCマグネトロンスパッタ源を用いた。シリコン上に堆積したAg/スパッタPTFEの薄いナノ複合体膜(厚さ800から1100nm,Ag濃度3.5から24.5%)は応力(6.24から12.2MPa)を残していることを立証した。残留応力はナノ粒子の濃度に依存した。純粋なスパッタ堆積したPTFE膜は小さな引張応力下にあり,金属ナノ粒子の充填因子が増加すると圧縮応力となり応力は増加した。残留応力はナノ粒子濃度に依存し,熱要因により決定され,温度変動に室温領域でも敏感だった。ナノ複合体-シリコンシステムの熱応答の評価においては,熱膨張係数およびナノ複合体弾性率の濃度による変化を考慮すべきである。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
高分子担体・触媒反応  ,  有機化合物の薄膜  ,  固体の機械的性質一般 
タイトルに関連する用語 (5件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る