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J-GLOBAL ID:201002236109776323   整理番号:10A0159032

1.成膜技術 1.4 PVD 1.4.4 複合化技術

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資料名:
巻: 61  号:ページ: 149-150  発行年: 2010年02月01日 
JST資料番号: G0441B  ISSN: 0915-1869  CODEN: HYGIEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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単一のPVD膜では要求特性が得られない場合に用いられる複合化技術の最近の技術進歩について紹介した。基材の強化のための複合処理として窒化+PVDについて述べた。これは窒化により基材の表面硬度を高くした上にPVD皮膜を形成する。これによりPVD膜下の硬化基板による応力負担が増大するためPVD膜の変形が低減され,亀裂発生を抑制できる。金型への適用が進められている。PVD皮膜の密着性向上のために基板表面の酸化物の除去,基材表面の改質などが行われる。例としては切削工具に適用されるショットピーニング+PVD処理がある。皮膜自体の特性向上のために種々の特性のPDV皮膜の多層化処理が行われる。最近の切削工具用被覆層は高い耐熱性および硬度を持つが靭性が低く,そのため靭性の高い膜との積層構造が用いられている。PVD硬質膜上にMoS2膜を成膜し,離型性の良好な金型を得る技術が開発された。最近イオン窒化法の改良型であるラジカル窒化法が開発された。この方法では基材表面に化合物層を形成させず,拡散層のみを作製できるため,表面粗さが増加せず鏡面を保持できる。これはPVDとの複合処理に対して有利である。
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分類 (2件):
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薄膜成長技術・装置  ,  表面硬化熱処理 
タイトルに関連する用語 (3件):
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