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J-GLOBAL ID：201002236198271019   整理番号：10A1471315

化学溶液沈殿によるチタン酸鉛薄層膜における残留応力に対する高速熱アニーリングの効果

Effect of rapid thermal annealing on residual stress in lead titanate thin film by chemical solution deposition

著者 (6件)： OHNO T ,  SUZUKI H ,  FU Ds ,  TAKAHASHI M ,  OTA T ,  ISHIKAWA K
資料名： CERAMICS INTERNATIONAL
巻： 30  号： 7  ページ： 1487-1491  発行年： 2004年 
JST資料番号： O1264A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (7件)： 化学 ,  溶液 ,  沈殿 ,  チタン酸鉛 ,  薄層 ,  残留応力 ,  高速熱アニーリング