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J-GLOBAL ID：201002236203487688   整理番号：10A0032853

基板周辺の中間周波グロー放電を利用した微粒子輸送型スパッタ装置の試作

著者 (1件)： 金子忠夫 (群馬工高専)
資料名： 日本機械学会関東支部ブロック合同講演会講演論文集
巻： 2009  ページ： 1-2  発行年： 2009年09月26日 
JST資料番号： L4051A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 円筒陰極形スパッタ室と円筒成膜室を有し,陰極スパッタで生成した金属微粒子を成膜室内に発生させた中間周波グロー放電を利用して線状基板に付着させる,新規な構造の微粒子輸送型スパッタ装置を試作した。成膜実験で得られた成膜速度が0.15nm程度と遅いものの,微粒子を280mm以上輸送して成膜できると推測された。SEM観察から,微粒子が凝集したような構造の膜ばかりでなく,緻密な膜も形成できることが分かった。(著者抄録)

シソーラス用語： *グロー放電 ,  *スパッタリング装置 ,  金属 ,  *微粒子 ,  基板 ,  薄膜成長 ,  中間周波数 ,  試作 ,  電極 ,  構造 ,  格子電極 ,  走査電子顕微鏡 ,  運動エネルギー ,  プラズマ ,  行為 ,  エネルギー ,  力学量

分類 (2件)： スパッタリング  (BK16110U) ,  金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (7件)： 周辺 ,  中間周波 ,  グロー放電 ,  微粒子 ,  輸送 ,  スパッタ装置 ,  試作