文献

J-GLOBAL ID：201002237301232520   整理番号：10A1268207

エチレン基含有low-k多孔質シリカ膜中の細孔径分布解析

Analysis of pore size distribution in low-k porous silica films incorporated with ethylene groups

著者 (6件)： UCHIDA Y ,  OHDAIRAI T ,  SUZUKI R ,  MARUYAMA Y ,  KATOH T ,  ISHIDA K
資料名： ADVANCED METALLIZATION CONFERENCE 2004 (AMC 2004)
ページ： 437-441  発行年： 2004年 
JST資料番号： I20040175  ISBN： 1-55899-814-4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： エチレン ,  多孔質 ,  シリカ膜 ,  細孔径分布 ,  解析