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J-GLOBAL ID：201002237874532536   整理番号：10A0954978

酸化アルミニウムのオゾン・酸素プラズマ併用原子層蒸着における表面反応機構

Surface Reaction Mechanisms during Ozone and Oxygen Plasma Assisted Atomic Layer Deposition of Aluminum Oxide

著者 (3件)： RAI Vikrant R. (Colorado School of Mines, Colorado) ,  VANDALON Vincent (Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD) ,  AGARWAL Sumit (Colorado School of Mines, Colorado)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 17  ページ： 13732-13735  発行年： 2010年09月07日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アスペクト比が高いナノ構造への精密な厚さと急峻な界面を持つ共形膜の蒸着にはALDが最適である。そのプラズマ法で起きている表面反応と気相反応の機構を明らかにしたい。トリメチルアルミニウムにオゾンと酸素プラズマを交互に作用させる,アルミナのALDでの配位子交換反応をその場ATR-FTIRスペクトルで検討した。酸化サイクルでは表面にヒドロキシル基も炭酸基も生じた。炭酸基は一旦できるとそのサイクル内ではオゾン被曝に安定であるが,このプラズマ法では長期被曝により一連の反応経路で分解する。OH基の炭酸基に対する比は酸化剤と酸化工程の長さとに強く依存した。オゾンサイクルでも酸素サイクルでも炭酸基は表面反応基としてはOH基に比べて小部分に過ぎなかった。

シソーラス用語： アルミナ ,  *酸化アルミニウム ,  *化学蒸着 ,  *プラズマCVD ,  *併用効果 ,  *オゾン ,  *酸素 ,  *反応機構 ,  表面反応 ,  気相反応 ,  配位子交換 ,  その場観察 ,  *ATR分光法 ,  *FTIR分光法 ,  *基 ,  炭酸塩 ,  安定性 ,  反応経路 ,  分解反応 ,  比率 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  *ALD ,  *ATR-FTIR分光法 ,  *プラズマアシスト化学蒸着 ,  *官能基 ,  *原子層蒸着

分類 (3件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  原子とラジカルの反応  (CB06030C) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： トリメチルアルミニウム

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸化アルミニウム ,  オゾン ,  酸素プラズマ ,  併用 ,  原子層蒸着 ,  表面反応