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J-GLOBAL ID：201002239831490204   整理番号：10A0731707

トポグラフィーを有するウエハ上の反射防止膜の最適化に対する反射率計量

Reflectivity metrics for optimization of anti-reflection coatings on wafers with topography

著者 (4件)： SMITH Mark D. (KLA-Tencor Corp, TX) ,  GRAVES Trey (KLA-Tencor Corp, TX) ,  BIAFORE John (KLA-Tencor Corp, TX) ,  ROBERTSON Stewart (KLA-Tencor Corp, TX)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7639  号： Pt.2  ページ： 763935.1-763935.11  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 変動するリソグラフィー工程を安定化するために反射防止膜が用いられる。トポグラフィーを有するウエハに適用できる三種類の反射率計量を評価した:単純な平面積層膜に対する反射率,定在波振幅,反射回折係数。これらの軽量は単純な物理的意味を持ち,まずそれらについて詳述した。次に,これらの計量がクリティカルディメンジョン(CD)の変動と如何に良く相関するかを,STIとLELE(リソ-エッチ-リソ-エッチ)二重パターン形成に対して評価した。

シソーラス用語： トポグラフィー【形態】 ,  *ウエハ【IC】 ,  *反射防止膜 ,  *反射率 ,  計量 ,  リソグラフィー ,  長さ ,  エッチング ,  多重露光
準シソーラス用語： クリティカルディメンジョン ,  二重パターン形成

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： トポグラフィー ,  ウエハ ,  反射防止膜 ,  最適化 ,  反射率 ,  計量