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J-GLOBAL ID：201002240791012205   整理番号：10A0389711

UV酸化されたダイヤモンド水素化表面のその場熱処理

In situ thermal treatment of UV-oxidized diamond hydrogenated surface

著者 (9件)： SPERANZA G. (FBK-IRST Sommarive str. 18, 38123 Povo (TN), ITA) ,  TORRENGO S. (FBK-IRST Sommarive str. 18, 38123 Povo (TN), ITA) ,  TORRENGO S. (Physics Dep. Univ. of Trento, 38123 Povo (TN), ITA) ,  FILIPPI M. (FBK-IRST Sommarive str. 18, 38123 Povo (TN), ITA) ,  MINATI L. (FBK-IRST Sommarive str. 18, 38123 Povo (TN), ITA) ,  VITTONE E. (Dept. of Experimental Physics and “Nanostructured Interfaces and Surfaces” (NIS), Univ. of Torino, 10100 Torino, ITA) ,  PASQUARELLI A. (Dept. Electron Devices and Circuits, Ulm Univ., DEU) ,  DIPALO M. (Dept. Electron Devices and Circuits, Ulm Univ., DEU) ,  KOHN E. (Dept. Electron Devices and Circuits, Ulm Univ., DEU)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 604  号： 9-10  ページ： 753-761  発行年： 2010年05月15日 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学蒸着(CVD)によって作られた多結晶水素化ダイヤモンドの,紫外線照射下の酸化における表面物性を調べた。ダイヤモンド表面は熱処理により真空中で清浄化した。UV光電子分光法により未照射表面の電子親和力を評価し,X線光電子分光法により表面組成を制御することで表面物性を特徴付けた。次に清浄表面を純粋酸素と紫外線照射(重水素ランプ)に曝した。XPSにより酸素原子濃度と特定の化学結合の存在を評価することでオゾン誘起表面酸化を確認した。ダイヤモンドの電子親和力の変化を解析することでも表面酸化を確認した。次に,温度を上昇させての一連の熱処理によって酸素をその場で除去した。~300°Cにおいてすでに酸素濃度が顕著に減少し,それはアニーリング温度を増加させても持続した。同時に最初の電子親和性も段階的に回復した。これらの効果は970°Cまで観察され,この温度で電子親和力が負の値をとると推定される。酸化プロセスを記述するのに特定の化学反応を仮定し,ダイヤモンド表面の電子の挙動を説明した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *紫外線照射 ,  *酸化 ,  *ダイヤモンド ,  *水素化 ,  *熱処理 ,  浄化 ,  X線光電子スペクトル ,  紫外光電子スペクトル ,  脱酸素 ,  電子親和力 ,  *表面 ,  活性化
準シソーラス用語： 酸素除去 ,  清浄化

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 酸化 ,  ダイヤモンド ,  水素化 ,  熱処理