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J-GLOBAL ID：201002241032725384   整理番号：10A0187604

ナノインプリント技術 ナノインプリント装置向け非接触表面形状・光学特性評価装置の開発動向と適用事例

著者 (1件)： 矢木一幸 (菱光社 営業技術本部)
資料名： 月刊トライボロジー  (トライボロジー)
号： 270  ページ： 52-55  発行年： 2010年02月10日 
JST資料番号： L0218A  ISSN： 0914-6121  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本報では光学素子の中でも最近特に注目され,一部でナノインプリントリソグラフィー(NIL)の工法を用いたデバイスでもあるウェハレベルカメラ(WLC)を例に,その計測技術について解説した。主な内容項目を次に示した。1)概要:NILの研究開発経緯と応用分野,2)ウェハレベルカメラ(WLC)とは:従来の工法とWLCの工法比較,WLC法の利点と課題,3)非接触形状測定によるレンズの位置決め,高さ管理:装置外観,仕様,測定原理(測定器外観,測定原理図,測定装置の仕様),光学特性評価の測定原理(光学特性評価機能の測定原理とスリットの種類),非接触3次元測定装置による測定管理の提案(レンズ形状,レンズ位置決め測定,各レンズの高さのばらつき,光学特性(MTF),基板の反り),4)転写レンズ担体,離形で発生する内部歪みの管理:装置全体構成,レンズ歪み方向表示例,自己クローニングフォトニック結晶,測定原理(偏光イメージセンサの構成,演算方法概要),2次元複屈折評価システムによる測定管理の提案(WLC用レンズアレイの内部歪みの計測結果など)。

シソーラス用語： リソグラフィー ,  *非接触測定 ,  *三次元測定 ,  形態 ,  光学的性質 ,  ウエハ【IC】 ,  *計測システム ,  技術開発
準シソーラス用語： *ナノインプリントリソグラフィー ,  *表面形状 ,  *光学特性

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  計測機器一般  (AD02000X)

タイトルに関連する用語 (7件)： ナノインプリント ,  非接触 ,  表面形状 ,  光学特性評価 ,  開発 ,  動向 ,  適用事例