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J-GLOBAL ID:201002241491794305   整理番号:10A0329780

不活性対極としてのスプレー熱分解したナノ結晶CeO2-SiO2薄膜の合成とキャラクタリゼーション

Synthesis and characterization of spray pyrolyzed nanocrystalline CeO2-SiO2 thin films as passive counter electrodes
著者 (6件):
資料名:
巻: 94  号:ページ: 781-787  発行年: 2010年05月 
JST資料番号: D0513C  ISSN: 0927-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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適切な容量比を有する硝酸セリウム六水和物とトリメトキシメチルシランの等モル濃度メタノール溶液のブレンドを用いて,ナノ結晶CeO2-SiO2薄膜をフッ素ドープ酸化スズ(FTO)被覆ガラス基板上にスプレー熱分解した。CeO2-SiO2薄膜は,立方晶系蛍石結晶構造を有する多結晶であり,SiO2成分の増加とともに非晶質に変換した。SiO2濃度の増加(0-6vol%SiO2)とともに,室温での膜の電気抵抗率は1.05×1010から1.13×106Ωcmまで変化した。すべての場合で抵抗率は,熱活性化エネルギー0.84±0.04eVを有し,範囲298-553Kで負の温度依存性を伴いArrheniusの挙動に従った。膜は透明であり(T~80%),純粋なCeO2の3.45eVからCeO2-SiO2膜の3.02-3.12eVまでのバンドギャップエネルギー(Eg)の減少を示した。異なるCeO2-SiO2組成で得た膜の異なるモルフォロジー状態が,膜のイオン貯蔵容量(ISC)と電気化学的安定性に影響を及ぼした。3vol%Siを用いて調製した厚さ580nmのCeO2-SiO2膜は,最大の空隙率と28mCcm-2という高いISCを示し,0.5M LiClO4+PC電解質中で3500サイクルという電気化学的安定性を有した。Li+イオンインターカレーションの範囲に関係ない,Li+イオン挿入/抽出上の無視できる透過変調によって,このCeO2-SiO2膜の光学不活性挙動を確認した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
電気光学効果,磁気光学効果  ,  酸化物薄膜 

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