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J-GLOBAL ID:201002241572088880   整理番号:10A0676939

超薄膜2次元高分子被覆によるCl-が有無の条件における0.1MKClO4中の不動態皮膜破壊と腐食防止及び0.1MNaNO3中の再生処理

Prevention of passive film breakdown and corrosion of iron in 0.1M KClO4 with and without Cl- by covering with an ultrathin two-dimensional polymer coating and healing treatment in 0.1M NaNO3
著者 (2件):
資料名:
巻: 52  号:ページ: 2766-2772  発行年: 2010年09月 
JST資料番号: B0135B  ISSN: 0010-938X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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1,2-ビス(トリエトキシシリル)エタン(C2H5O)3Si(CH2)2Si(OC2H5)3とオクタデシルトリエトキシシランC18H37Si(OC2H5)3で修飾したヘキサデカン酸16-ヒドロキシイオンHO(CH2)15CO-2の自己集合単分子層である2次元高分子被覆を不動態鉄電極上に形成した。そしてさらに不動態皮膜を0.1MNaNO3中で処理することで治癒した。この電極をCl-を1×10-4から1×10-2Mを含む場合と含まない場合の含酸素0.1MKClO4溶液中に浸漬した。不動態皮膜破壊時間,tbdを測定するために長時間溶液中に浸漬して開回路電位を追跡した。これによって高分子被覆電極破壊に対する不動態皮膜保護特性を評価した。保護効率,Pを得るためにこれらの溶液中に浸漬して繰返分極測定を行った。Cl-が有無の条件の0.1MKClO4溶液中において不動態化高分子被覆と治癒電極のtbd値はCl-濃度の減少と共に増加した。1×10-4MCl-濃度が有無の条件の0.1MKClO4中に360時間浸漬することにより電極は破壊されなかった。P値はtbd前では非常に高く99.9%以上であった。これは鉄を腐食から完全に保護していることを示している。不動態皮膜破壊に対する0.1MNaNO3中の治癒処理の影響を電子プローブ微量分析によって研究した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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