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J-GLOBAL ID：201002241582425264   整理番号：10A0469027

形状制御可能パターンを持つナノニードルで覆われた完全疎水表面

Perfectly Hydrophobic Surfaces with Patterned Nanoneedles of Controllable Features

著者 (4件)： PARK Sung-Gyu (Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR) ,  LEE Su Yeon (Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR) ,  JANG Se Gyu (Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR) ,  YANG Seung-Man (Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 26  号： 8  ページ： 5295-5299  発行年： 2010年04月20日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Siウエハ基板上に約250nmのポリスチレン(PS)薄膜をスピンコートし,30秒酸素プラズマ処理した後,その表面にスピンコートにより直径1μmの単分散シリカ粒子のヘキサゴナル配列単一層を形成させた。これをヒートプレート上で,PSのガラス転移点(95°C)以上に加熱するとSi粒子が部分的に沈み込み,その隙間に毛細管現象により溶融PSが浸透した。冷却後,フッ化水素酸でSi粒子を取り除き,SF₆による化学エッチングを行うと,PS表面にナノニードルもしくはナノチップのヘキサゴナルアレー(密度2.5x108/cm²)が形成された。また,加熱時間によりニードルの形状を制御できることがSEM観察から明らかになった。ゴニオメトリにより求めたこのPS表面の水に対する接触角はほぼ180°であり,完全疎水性を示した。

シソーラス用語： *ナノ構造 ,  *針 ,  *疎水性 ,  表面 ,  *ポリスチレン ,  単一層 ,  ガラス転移点 ,  走査電子顕微鏡 ,  接触角 ,  高分子薄膜 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  *ナノニードル ,  超疎水性

分類 (4件)： 界面化学一般  (CB12010J) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  ポリスチレン  (YH07120V) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (3件)： 形状制御 ,  ナノニードル ,  疎水表面