文献

J-GLOBAL ID：201002241588595781   整理番号：10A1033895

セリウム(III)イオンの選択的分離のための犠牲的支持物質としてのアタパルジャイトに基づくCe(III)鋳型付けポリマの合成と応用

Synthesis and applications of Ce(III)-imprinted polymer based on attapulgite as the sacrificial support material for selective separation of cerium(III) ions

著者 (6件)： PAN Jianming (Jiangsu Univ., Zhenjiang, CHN) ,  ZOU Xiaohua (Jiangsu Univ., Zhenjiang, CHN) ,  LI Chunxiang (Jiangsu Univ., Zhenjiang, CHN) ,  LIU Yan (Jiangsu Univ., Zhenjiang, CHN) ,  YAN Yongsheng (Jiangsu Univ., Zhenjiang, CHN) ,  HAN Juan (Jiangsu Univ., Zhenjiang, CHN)
資料名： Microchimica Acta  (Microchimica Acta)
巻： 171  号： 1/2  ページ： 151-160  発行年： 2010年10月 
JST資料番号： D0076A  ISSN： 0026-3672  CODEN： MIACAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オーストリア (AUT)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 0.067mmolのキトサン(CTS),0.921mmolのCe³⁺を0.1M酢酸水溶液160mLに溶解し1h撹拌後,40mLのγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(KH-560)40mLを混合する。撹拌下25°Cで3h反応させ,超音波照射処理をしながら活性化アタパルジャイトを添加する。粒子を室温で乾燥し,架橋反応を進行させた後,粉砕,洗浄,アタパルジャイトを担体とするポリマ(AIP)を得る。AIPをフッ化水素酸により除去し,中空のCe(III)鋳型付けポリマ(CIP)を得る。Fourier変換赤外分光法,走査電子顕微鏡,透過電子顕微鏡,熱重量法等を適用して特性付けした。鋳型付けしないでCIPと同様に作成したNIP,CIP及びAIPの吸着特性をバッチ法で検討した。最大吸着容量は130mgg^-1であった。CIPは再使用可能で,4回使用で容量が16-18%減っただけであった。本CIPを河川底質中Ce³⁺の分離と定量に適用した。なお,定量はICP-AES分析によった。

シソーラス用語： *セリウム化合物 ,  *金属イオン ,  *パリゴルスカイト ,  キトサン ,  熱重量分析 ,  河成堆積物 ,  分離 ,  定量分析 ,  *ICP-AES分析 ,  *機能性高分子 ,  赤外吸収スペクトル ,  電子顕微鏡観察 ,  *吸着
準シソーラス用語： *アタパルジャイト ,  *セリウムイオン ,  *分子刷込高分子 ,  FTIRスペクトル

分類 (3件)： 各種物理的手法  (CC01030W) ,  無機化合物の物理分析  (CC03024P) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

物質索引 (1件)： γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン

タイトルに関連する用語 (10件)： セリウム ,  イオン ,  犠牲 ,  支持 ,  物質 ,  アタパルジャイト ,  Ce ,  鋳型 ,  ポリマ ,  応用