文献

J-GLOBAL ID：201002241654640661   整理番号：10A1138599

光ルミネセンスとRaman分光で研究した埋込みシリコンナノ結晶: 励起子とフォノン閉じ込め効果

Embedded Silicon Nanocrystals Studied by Photoluminescence and Raman Spectroscopies: Exciton and Phonon Confinement Effects

著者 (8件)： MISKA Patrice (Inst. Jean Lamour, CNRS, Vandoeuvre-les-Nancy, FRA) ,  DOSSOT Manuel (Nancy Univ., Villers-les-Nancy, FRA) ,  NGUYEN Thi D. (Inst. Jean Lamour, CNRS, Vandoeuvre-les-Nancy, FRA) ,  NGUYEN Thi D. (Nancy Univ., Villers-les-Nancy, FRA) ,  GRUEN Matthias (Inst. Jean Lamour, CNRS, Vandoeuvre-les-Nancy, FRA) ,  RINNERT Herve (Inst. Jean Lamour, CNRS, Vandoeuvre-les-Nancy, FRA) ,  VERGNAT Michel (Inst. Jean Lamour, CNRS, Vandoeuvre-les-Nancy, FRA) ,  HUMBERT Bernard (Univ. de Nantes, Nantes, FRA)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 114  号： 41  ページ： 17344-17349  発行年： 2010年10月21日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 真空蒸着SiO厚単層膜,逐次蒸着SiO/SiO₂薄多層膜のアニーリングでそれぞれ生成した被覆(埋め込み)シリコンナノ結晶の光学,振動特性を光ルミネセント,Raman分光で研究した。これらの観測スペクトルは励起子とフォノン閉じ込め効果で説明でき,シリカ基質中へのシリコンナノ結晶の埋め込み(ナノ複合材料の生成)を明らかにした。

シソーラス用語： *ナノ結晶 ,  *ケイ素 ,  構造物 ,  *ナノ複合材料 ,  真空蒸着 ,  熱処理 ,  光ルミネセンス ,  発光スペクトル ,  Ramanスペクトル ,  *量子閉込め ,  *励起子 ,  *フォノン ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  埋込み構造物

分類 (4件)： 半導体の結晶成長  (BK13040X) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  量子光学一般  (BD04010X) ,  励起子  (BM02120E)

タイトルに関連する用語 (8件)： 光ルミネセンス ,  Raman分光 ,  研究 ,  埋込み ,  シリコンナノ結晶 ,  励起子 ,  フォノン ,  閉じ込め効果