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J-GLOBAL ID：201002241898429342   整理番号：10A0536923

D0₂₂-およびL1₂-構造(V,Ti)Al₃における化学結合と擬ギャップ形成

Chemical bonding and pseudogap formation in D0₂₂- and L1₂-structure (V, Ti)Al₃

著者 (5件)： CHEN Zhenlian (Key Lab. of Artificial Micro- and Nano-structures of Ministry of Education and School of Physics and Technol., Wuhan ...) ,  ZOU Huamin (Key Lab. of Artificial Micro- and Nano-structures of Ministry of Education and School of Physics and Technol., Wuhan ...) ,  ZOU Huamin (Centre for Electron Microscopy, Wuhan Univ., Wuhan 430072, CHN) ,  YU Fengmei (Key Lab. of Artificial Micro- and Nano-structures of Ministry of Education and School of Physics and Technol., Wuhan ...) ,  ZOU Jie (Physics Dep., Eastern Illinois Univ., Charleston, Illinois 61920, USA)
資料名： Journal of Physics and Chemistry of Solids  (Journal of Physics and Chemistry of Solids)
巻： 71  号： 7  ページ： 946-951  発行年： 2010年07月 
JST資料番号： C0202A  ISSN： 0022-3697  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 2元遷移金属アルミ化物における化学結合の厳密な定義を得るために,D0₂₂-およびL1₂-構造のVAl₃およびTiAl₃に対してトポロジカル解析を行なった。解析はab initio密度汎関数理論により計算した原子価電荷密度に基づいた。これらの化合物における擬ギャップ形成機構をよりよく理解するために,バンド構造,状態密度(DOS)そしてバンド分解電荷密度(BDCG)を計算した。トポロジカル解析は,(V,Ti)原子とAl原子間の相互作用がすべて純粋な共有殻相互作用であり,結合は共有結合であり,そして明確にπ結合性格をもつことを明らかにした。バンド構造,DOSおよびBDCDの研究は,擬ギャップの形成が単位胞間軌道相互作用と結合した(V,Ti)-3d軌道の結晶場エネルギー分裂に起因することを示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *原子価 ,  *電荷分布 ,  密度 ,  ab initio法 ,  *密度汎関数法 ,  *バンド構造 ,  状態密度 ,  *位相幾何学 ,  *アルミニウム合金 ,  金属間化合物

分類 (1件)： 金属結晶の電子構造  (BM02050C)

タイトルに関連する用語 (3件)： Ti ,  化学結合 ,  擬ギャップ