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J-GLOBAL ID：201002241951126748   整理番号：10A0157594

強誘電性層および強磁性層を持つCr₂O₃/Si-MISキャパシタにおけるスピン注入特性の制御

Controlling of spin injection properties in Cr₂O₃/Si-MIS capacitor having ferroelectric and ferromagnetic layers

著者 (5件)： MURATA S. (Nagoya inst. of technol.) ,  YOKOTA T. (Nagoya inst. of technol.) ,  TSUBOI Y. (Nagoya inst. of technol.) ,  KITO S. (Nagoya inst. of technol.) ,  GOMI M. (Nagoya inst. of technol.)
資料名： セラミックス基礎科学討論会講演要旨集  (Preprints of the Symposium on Basic Science of Ceramics)
巻： 48th  ページ： 279  発行年： 2010年01月12日 
JST資料番号： L1357A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *酸化クロム ,  *不定比化合物 ,  *ニオブ酸リチウム ,  *鉄 ,  酸化セリウム ,  ケイ素 ,  *多層膜 ,  強誘電体 ,  強磁性体 ,  *酸化膜 ,  *絶縁膜 ,  *漏れ電流 ,  静電容量 ,  注入 ,  *スピン分極 ,  *電流電圧特性 ,  *磁気電気効果 ,  *MIS構造 ,  *コンデンサ ,  ヒステリシス ,  フローティングゲート
準シソーラス用語： *キャパシタ ,  スピン注入 ,  *トンネル酸化膜

分類 (1件)： 金属-絶縁体-半導体構造  (BM03085X)

タイトルに関連する用語 (6件)： 強誘電性 ,  強磁性 ,  Cr2O3 ,  Si ,  MISキャパシタ ,  スピン注入