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J-GLOBAL ID：201002242152047017   整理番号：10A1197330

0.95(Na_0.5Bi_0.5)TiO₃-0.05BaTiO₃薄膜に及ぼす迅速熱処理の影響

Effects of rapid thermal annealing treatment on 0.95(Na_0.5Bi_0.5)TiO₃-0.05BaTiO₃ thin films

著者 (2件)： DIAO C.-C. (Kao Yuan Univ., Kaohsiung, TWN) ,  YANG C.-F. (National Univ. Kaohsiung, Kaohsiung, TWN)
資料名： Advances in Applied Ceramics  (Advances in Applied Ceramics)
巻： 109  号： 7  ページ： 421-425  発行年： 2010年10月 
JST資料番号： E0272A  ISSN： 1743-6753  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 0.95(Na_0.5Bi_0.5)TiO₃-0.05BaTiO₃+1重量%BiTiO₃(NBT-BT3)セラミックスをターゲットとして使用してSiO₂/p-Si(100)/AlおよびPt/Ti/SiO₂/p-Si(100)基板上にrfマグネトロンスパッタリングによりNBT-BT3薄膜を形成した。NBT-BT3薄膜は700°Cの熱処理により微細粒子が生長し,800°Cの熱処理によりBiまたはBi₂O₃の蒸発による気泡が発生した。NBT-BT3薄膜の電気特性と熱処理の影響を調べた。

シソーラス用語： *チタン酸塩 ,  *ナトリウム化合物 ,  *ビスマス化合物 ,  *チタン酸バリウム ,  *蒸着膜 ,  スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  RFスパッタリング ,  ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  白金 ,  チタン ,  多層膜 ,  *RTA【熱処理】 ,  電気化学的分極 ,  誘電分極 ,  抗電場 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  ケイ素基板 ,  *チタン酸ナトリウムビスマス ,  飽和分極

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (2件)： 薄膜 ,  迅速熱処理