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J-GLOBAL ID：201002242378779177   整理番号：10A0252932

ジメチルアルミニウムイソプロポキシドの熱分解による酸化アルミニウム薄膜の有機金属化学蒸着

Metal-organic chemical vapor deposition of aluminum oxide thin films via pyrolysis of dimethylaluminum isopropoxide

著者 (6件)： SCHMIDT Benjamin W. (Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, Vanderbilt Univ., Nashville, Tennessee 37235) ,  SWEET William J. (Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, Vanderbilt Univ., Nashville, Tennessee 37235) ,  BIERSCHENK Eric J. (Dep. of Chemistry, Vanderbilt Univ., Nashville, Tennessee 37235) ,  GREN Cameron K. (Dep. of Chemistry, Vanderbilt Univ., Nashville, Tennessee 37235) ,  HANUSA Timothy P. (Dep. of Chemistry, Vanderbilt Univ., Nashville, Tennessee 37235) ,  ROGERS Bridget R. (Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, Vanderbilt Univ., Nashville, Tennessee 37235)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 28  号： 2  ページ： 238  発行年： 2010年03月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機金属化学蒸着酸化アルミニウム膜を,高真空反応チェンバーにおいて,417~659°Cの温度範囲で,ジメチルアルミニウムイソプロポキシドの熱分解により生成した。堆積膜は,アルミニウム,酸素,及び炭素を含み,炭素対アルミニウム比は,堆積温度の上昇とともに増大した。アルミニウム-炭素結合を,659°Cにおいて堆積した膜において,X線光電子分光により観測したが,417°Cにおいて堆積した膜では観測しなかった。表面反応制御領域における見かけの活性化エネルギーは91kJ/molであった。堆積膜におけるO/Al及びC/Al比は,前駆体の化学量論により予測された比より,それぞれ,大及び小であった。堆積過程のフラックス分析は,観測された膜化学量論を,ベース圧力における反応炉に存在する酸素含有背景ガスの析出により説明できることを示唆した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化アルミニウム ,  誘電体薄膜 ,  熱分解 ,  *MOCVD ,  *X線光電子スペクトル ,  活性化エネルギー ,  化学量論 ,  有機アルミニウム化合物 ,  薄膜成長 ,  深さプロフィル ,  バックグラウンド

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： ジメチルアルミニウムイソプロポキシド

タイトルに関連する用語 (4件)： 熱分解 ,  酸化アルミニウム ,  薄膜 ,  有機金属化学蒸着