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J-GLOBAL ID：201002243032686225   整理番号：10A1048466

BiFe_0.95Mn_0.05O₃薄膜の強化強誘電性

Enhanced ferroelectric properties in BiFe_0.95Mn_0.05O₃ thin films

著者 (1件)： CUI Shougang (Jinan Yuantek Sol-Gel Technol. Ltd., Shandong 250010, CHN)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 508  号： 2  ページ： 520-522  発行年： 2010年10月22日 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 逐次層焼なまし法を組み合わせた有機金属分解法によってBiFe_0.95Mn_0.05O₃(BFMO)薄膜をPt/Ti/SiO₂基板上に堆積させた。10min/層の焼なましを行ったBFMO膜は,2min/層の焼なましと比較して,強い電荷保持能と疲れ抵抗の他,非常に大きな残留分極(Pr≒81μC/cm²),抗電場(Ec≒178kV/cm)を示し,焼なまし時間の延長は強誘電性の改善に有利であることを示す。これらの結果を,焼なまし処理の際の酸素空孔とアクセプタの間の欠陥複合体の生成のほか,相転移にも基いて考察する。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *鉄酸塩 ,  *ビスマス化合物 ,  ドーピング ,  *マンガン ,  *強誘電性 ,  焼なまし ,  保持時間 ,  残留分極 ,  抗電場 ,  疲れ強さ ,  空格子点 ,  アクセプタ ,  相転移 ,  複合欠陥
準シソーラス用語： 酸素空孔

分類 (1件)： セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  強化 ,  強誘電性