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J-GLOBAL ID:201002243037970550   整理番号:10A0166269

OLED素子に使用したAlq3とNPB薄膜の相当弾性係数に関するナノ押込み研究

A nano-indentation study of the reduced elastic modulus of Alq3 and NPB thin-film used in OLED devices
著者 (4件):
資料名:
巻: 11  号:ページ: 450-455  発行年: 2010年03月 
JST資料番号: W1352A  ISSN: 1566-1199  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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種々の硬度を有する二種類の基板上に薄膜として二種類の通常使用されている有機発光ダイオード(OLED)材料トリス-(8-ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq3)とN,N′-ビス(ナフタレン-1-イル)-N,N′-ビス(フェニル)ベンジジン(NPB)を熱蒸着した。ナノ押込み技法を用いることによって,各々の被膜の相当弾性係数を測定した。標準OliverとPharr法及び基板の効果を良く説明できる開発された臨界押込み深さ法を通してデータを注意深く解析した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  発光素子 
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