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J-GLOBAL ID:201002243075949378   整理番号:10A0704742

InP(001)に格子整合したAlGaInAs格子上の低密度InAs量子ドットの設計および実現

Design and realization of low density InAs quantum dots on AlGaInAs lattice matched to InP(001)
著者 (8件):
資料名:
巻: 312  号: 16-17  ページ: 2300-2304  発行年: 2010年08月01日 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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MBE成長を用いて,InP(001)基板に整合したAlxGayIn1-x-yAs格子上にInAsナノ構造を作製した。この材料系では,典型的には,非常に伸張した量子ダッシュ状構造が生じた。これは,[1-10]および[110]方向に沿っての大きく非等方的なマイグレーション長によるものであった。[110]方向に沿っての短いマイグレーション長を増加させるため,1秒間に3×10-3単一層というきわめて遅い成長速度を採用した。これにより,通常形成される量子ダッシュ構造ではなく,表面密度の低いInAs量子ドットの形成を試みた。量子ドットの発光波長を調整するため,以下の三つの方法を検討した。(1)ガリウムに対するアルミニウムの比を調整して周辺材料のバンドギャップを変化させる,(2)アンチモンを導入して量子ドット材料のバンドギャップを変化させる,(3)二つの量子ドットを互いに近接させて積層し,量子ドットの高さを変化させる。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体の結晶成長  ,  半導体のルミネセンス 

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