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J-GLOBAL ID：201002243336338681   整理番号：10A0135951

プラズマ中の誘電体薄膜の膜厚のその場実時間測定法

In situ method for real time measurement of dielectric film thickness in plasmas

著者 (3件)： JANG Sung-ho (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Hanyang Univ., 17 Haengdang-dong Seongdong-gu, Seoul 133-791, KOR) ,  KIM Gun-ho (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Hanyang Univ., 17 Haengdang-dong Seongdong-gu, Seoul 133-791, KOR) ,  CHUNG Chin-wook (Dep. of Electrical and Computer Engineering, Hanyang Univ., 17 Haengdang-dong Seongdong-gu, Seoul 133-791, KOR)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 107  号： 2  ページ： 023303  発行年： 2010年01月15日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 誘電体薄膜のその場膜厚測定法(二重周波法)を開発し,誘導結合プラズマ中で膜厚を測定した。本方法では膜厚測定に2周波の低いacバイアス電圧を使用する。誘電体膜厚は誘電体薄膜のインピーダンスを記述する等価回路モデルとプラズマさやを使用するのと同様に,センサーからの2周波ac電流の振幅を測定して得る。実験では,Al₂O₃薄膜の膜厚を実時間で正確に測定した。測定の信頼性をチェックするために,二重周波法を光学的厚さ診断法としての反射分光測光法と比較した。様々なrfパワーと圧力において,二重周波法は反射分光測光法と良く一致していることが分かった。さらに,二重周波法は光学的方法と比べて非常に簡便でプラズマ炉のどこにでも設置できる。従って,種々のプロセッシングプラズマのその場診断に適用できると期待される。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *誘電体薄膜 ,  *厚み測定 ,  誘導結合プラズマ ,  酸化アルミニウム ,  電圧 ,  電気診断 ,  プラズマ診断 ,  プラズマ処理
準シソーラス用語： その場測定 ,  バイアス電圧 ,  プラズマプロセシング ,  電気的診断 ,  *膜厚測定

分類 (2件)： プラズマ診断  (BJ02090L) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： プラズマ ,  誘電体薄膜 ,  膜厚 ,  実時間測定