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J-GLOBAL ID:201002243357912035   整理番号:10A0796736

3Dチップパッケージ内の信号伝搬と電力供給における金属-絶縁膜-半導体(MIS)構造のスルーシリコンビア(TSV)の遅波および誘電体準TEMモード

Slow Wave and Dielectric Quasi-TEM Modes of Metal-Insulator-Semiconductor (MIS) Structure Through Silicon Via (TSV) in Signal Propagation and Power Delivery in 3D Chip Paekage
著者 (7件):
資料名:
巻: 60th Vol.1  ページ: 667-672  発行年: 2010年 
JST資料番号: H0393A  ISSN: 0569-5503  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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チップをスタックした三次元構造にはボンディングワイア法,フリップチップ法が用いられているが,電気特性の向上と集積化の向上を図るため,スルーシリコンビア(TSV)によるスタックの研究が進められている。TSVはほぼ無制限なI/O配線数,低遅延という利点があるが,MIS構造であるため,信号伝搬と電力供給に遅波と誘電体準TEMモードのような影響がある。MIS TSVモデルを提案し,この影響を数値計算した結果と測定結果とから解析した。MIS TSVはオンチップ金属配線に較べ,表面積が大きいこと,長さが長いこと,絶縁膜が薄いことにより,遅波と誘電体準TEMモードが電気特性におよぼす影響はより強い。測定値と三次元全波シミュレーションに基づく形状変数を有するMIS TSVモデルを求め,2つの遅波と誘電体準TEMモードがMIS TSVの電気特性に与える影響を信号伝搬と電力供給の面から解析した。
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分類 (1件):
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固体デバイス材料 

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