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J-GLOBAL ID:201002243505497239   整理番号:10A0389752

化学堆積ナノサイズ(Zn-Cd)S:Cu膜の電気光学と構造特性への銅濃度の影響

Effects of copper concentration on electro-optical and structural properties of chemically deposited nanosized (Zn-Cd)S:Cu films
著者 (1件):
資料名:
巻: 130  号:ページ: 1268-1274  発行年: 2010年07月 
JST資料番号: D0731A  ISSN: 0022-2313  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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ナノ結晶(Zn-Cd)S膜を,70°Cで75分間の化学浴堆積(CBD)法によってスライドガラス基板に共堆積した。Cuをドープしたこれらの膜のエレクトロルミネセンス(EL),光ルミネセンス(PL),構造特性を研究した。Cuドーピングは堆積後(Zn-Cd)S膜の成長,構造,光学特性に重要な影響を及ぼす。EL研究はEL発光に銅が不可欠であることを示した。Cu濃度の影響はXRD,SEM,UV-vis分光法などにて調べた。SEMとXRDによって研究したこれらの膜の形態は,膜の結晶性の性質を決定するために用いた。膜の光吸収係数は,Cu濃度の増加によって増加することが分かった。電圧と周波数依存性は加速衝突機構の有効性を示す。トラップ深さ値はEL輝度の温度依存性から計算した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  電気光学効果,磁気光学効果 

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