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J-GLOBAL ID：201002243543861572   整理番号：10A1152051

無線周波数マグネトロンスパッタリングにより作製したhcpおよびfccナノ結晶Ni薄膜およびナノ粒子の構造と磁気的性質

Structure and Magnetic Properties of hcp and fcc Nanocrystalline Thin Ni Films and Nanoparticles Produced by Radio Frequency Magnetron Sputtering

著者 (6件)： KAPAKLIS Vassilios (Univ. Patras, Patras, GRC) ,  PAPPAS Spiridon D. (Univ. Patras, Patras, GRC) ,  POULOPOULOS Panagiotis (Univ. Patras, Patras, GRC) ,  TRACHYLIS Dimitrios (Univ. Patras, Patras, GRC) ,  SCHWEISS Peter (Forschungszentrum Karlsruhe, Karlsruhe, DEU) ,  POLITIS Constantin (Univ. Patras, Patras, GRC)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 10  号： 9  ページ： 6024-6028  発行年： 2010年09月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Arプラズマにおける無線周波数マグネトロンスパッタリングによるNi薄膜の成長について報告する。ガラス,シリコン,サファイアそしてアルミナのような種々な基板上に厚さ範囲が10~1000nmのNi薄膜を堆積した。これらの薄膜はAr圧力窓内での六方周密充填(hcp)Ni膜の形成を確証した。窓の外部では面心立方(fcc)Ni膜が成長した。hcp試料は磁気的応答を示さなかった。fcc試料は,成長中のAr圧に依存する飽和場もつ強磁性応答を示した。高いAr圧で成長させた膜に対して飽和場が減少することは,歪みに起因する磁気弾性エントロピーの増大として解釈される。非磁性的hcp母材の中に磁性的Ni fccナノ粒子を含む膜,すなわち,その生産のために単一のNi標的を必要とする技術的応用にとって興味ある系,を形成できることを示した。

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  *ナノ結晶 ,  *ニッケル ,  金属薄膜 ,  *HCP金属 ,  *FCC金属 ,  強磁性 ,  エントロピー ,  磁気ヒステリシス ,  *磁化特性
準シソーラス用語： 磁気弾性エントロピー

分類 (1件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (10件)： 無線周波数 ,  マグネトロンスパッタリング ,  作製 ,  HCP ,  FCC ,  ナノ結晶 ,  Ni ,  薄膜 ,  ナノ粒子 ,  磁気的性質