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J-GLOBAL ID：201002243829813087   整理番号：10A0343414

超伝導集積回路におけるNb/Al/AlO_x/Nb Josephson接合の作製プロセス誘起変動

Fabrication-process-induced variations of Nb/Al/AlO_x/Nb Josephson junctions in superconductor integrated circuits

著者 (3件)： TOLPYGO Sergey K (HYPRES, Inc., NY, USA) ,  TOLPYGO Sergey K (Stony Brook Univ., NY, USA) ,  AMPARO Denis (Stony Brook Univ., NY, USA)
資料名： Superconductor Science and Technology  (Superconductor Science and Technology)
巻： 23  号： 3  ページ： 034024,1-9  発行年： 2010年03月 
JST資料番号： T0607A  ISSN： 0953-2048  CODEN： SUSTEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 40GHzのクロックで動作するHYPERS社製の超伝導集積回路について,実験データを基に,臨界電流及びNb/Al/AlO_x/NbJosephson接合(JJ)のエネルギーギャップのプロセス起因変動のメカニズムについて議論した。Josephson臨界電流は,接合に接続された回路素子のタイプと面積,回路パターン,及び接続が形成されるプロセスステップに依存する可能性があることを明らかにした。特に,接合ベース電極の接地面への接続,接合対向電極の設置面への接続,及び対向電極のTi/Al又はTi/Pd/Au導体パッドへのNb配線による接続の影響を議論した。Nb/Al/AlO_x/Nb接合のプロセス起因変化が,集積回路を構成する種々の層間の不純物原子(水素)のマイグレーションによることを示した。

シソーラス用語： *薄膜集積回路 ,  *Josephson接合 ,  *ニオブ ,  アルミニウム ,  酸化アルミニウム ,  超伝導 ,  エネルギーギャップ ,  超伝導素子 ,  回路 ,  *臨界電流密度 ,  不純物 ,  *マイグレーション【化学物質】 ,  電流電圧特性
準シソーラス用語： *超伝導ギャップ ,  超伝導デバイス ,  超伝導回路 ,  超伝導臨界電流密度

分類 (1件)： Josephson接合・素子  (BM04043E)

タイトルに関連する用語 (7件)： 超伝導集積回路 ,  Nb ,  Al ,  Josephson接合 ,  作製 ,  プロセス ,  誘起