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J-GLOBAL ID：201002243973539909   整理番号：10A0677215

単色軟X線によるSi(111)-7×7に吸着したSF₆の光分解

Photolysis of SF₆ adsorbed on Si(111)-7×7 by monochromatic soft X-ray

著者 (7件)： TSAI W.-c. (Dep. of Physics, National Cheng Kung Univ., Tainan 70101, Taiwan) ,  WANG S.-k. (Dep. of Physics, National Cheng Kung Univ., Tainan 70101, Taiwan) ,  CHOU L.-c. (Dep. of Physics, National Cheng Kung Univ., Tainan 70101, Taiwan) ,  CHEN J. (Dep. of Physics, National Cheng Kung Univ., Tainan 70101, Taiwan) ,  WU Y.-h. (Dep. of Physics, National Cheng Kung Univ., Tainan 70101, Taiwan) ,  CHEN H.-c. (Dep. of Physics, National Cheng Kung Univ., Tainan 70101, Taiwan) ,  WEN C.-r. (Dep. of Physics, National Cheng Kung Univ., Tainan 70101, Taiwan)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 604  号： 17-18  ページ： 1494-1501  発行年： 2010年08月30日 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 連続時間光電子分光法(PES)と光子露出依存光子励起脱着(PSD)を用いて,30KでSi(111)-7×7に吸着したSF₆分子(SF₆線量=3.4×10¹³molecules/cm²,約0.5単分子層)の単色軟X線誘起解離を研究した。吸着SF₆の光子誘起発展は,98と120eV[Si(2p)端近く]の光子エネルギーで監視し,連続価電子準位PESスペクトルは,エネルギーの関数として光分解断面積の推論を可能にした。98と120eV光子の光分解断面積がそれぞれ約2.7×10^-17と約3.7×10^-17cm²であることが分かった。F^-とF⁺ PSDイオン収率の変化も,120eVの光子照射中に測定した。F^-とF⁺イオン収率の光子曝露依存性は以下の特性を示した。(a)吸着したSF₆分子の解離は基板媒介解離に起因する[シリコン基板からの光電子放出によって起こる解離性付着(DA)と双極子解離(DD)],(b)光分解の初期段階では,F^-収率は主に吸着SF₆分子のDAとDDのためであるが,高光子曝露では,F⁺イオンの電子捕獲によるF^-形成が支配的機構でありそうである,(c)F⁺イオン脱着は表面SiF種の結合切断に関連している,(d)表面SiFは,SF_n(n=1~6)種のS-F結合の切断によって生成するフッ素原子またはF^-イオンと表面Si原子との反応によって形成される。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 軟X線 ,  ケイ素 ,  *吸着 ,  *フッ化硫黄 ,  光分解 ,  連続時間系 ,  光電子分光法 ,  脱着 ,  解離 ,  価電子 ,  エネルギー依存性 ,  断面積 ,  収率 ,  照射 ,  基板 ,  光電子放出 ,  解離性付着 ,  双極子 ,  電子捕獲 ,  開裂反応
準シソーラス用語： 結合切断 ,  光子励起脱着 ,  単色X線 ,  *六フッ化硫黄

分類 (2件)： 塩  (CD01050V) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 単色 ,  軟X線 ,  Si ,  吸着 ,  SF6 ,  光分解