パルス電流電着の最近の前進:概要レビュー

LARSON C.; FARR J.P.G.

文献

J-GLOBAL ID：201002245067226700 整理番号：10A1090481

パルス電流電着の最近の前進:概要レビュー

Recent advances in pulsed current electrodeposition: a brief review

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資料名：
巻： 88 号： 5 ページ： 237-242 発行年： 2010年09月
JST資料番号： E0279A ISSN： 0020-2967 CODEN： TIMFA 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：文献レビュー発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

パルス電流体積に関する刊行物は驚くほど広範囲の金属・合金系と応用をカバーしている。電子回路要素のパルスめっきに関する伝統分野,例えば高アスペクト比の透孔,ミクロ寸の銅コラム製作及びダマスコ細工めっき等が,まだ開発活動下にあるのみならず,他の有望な用途にもかなりの注意が向けられている。例は硬Cr自体のみならず有望な代替堆積に亘っており,例えば,工具鋼用のNi-W,Co-W,Ni-Co;Co基強磁性層;Pt及びPt-Coの触媒層;防食用伝統的Zn基合金径の更なる改善;熱電気Bi合金及び化合物;光電素子;ソーラーコレクター中の選択層用陽極Alのパルス電解Ni着色等である。それは研究者が更なる性能改善に向けて他技術とパルスめっき法との[ボルトオン」を試みつつあるセクタ,例えば超音波場内の複合皮膜のパルス磁気電解やパルス反転めっき等の高まる信頼度と円熟の徴でもあるようだ。第4回欧州パルスめっきセミナーでFarrはパルス電流開発の途切れ無き円熟と息吹の中には遠からず実用化できるところまで迫った研究もあると述べているが,これには,更に実験計画を考慮しその付加価値でもって現実の生産ラインや顧客への応答に対処するのが望ましいとの示唆がある。

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電気めっき

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