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J-GLOBAL ID：201002245093991180   整理番号：10A1146212

トップコートレスレジストを用いる大量浸漬リソグラフィーのオーナシップコスト/歩留り改善

Cost of Ownership/Yield Enhancement of High Volume Immersion Lithography Utilizing Topcoat-Less Resists

著者 (6件)： KHORRAM Hamid R. (Nikon Precision Inc., CA) ,  NAKANO Katsushi (Nikon Corp.) ,  SAGAWA Natsuko (Nikon Corp.) ,  ISHII Y. (Nikon Corp.) ,  FUJIWARA Tomoharu (Nikon Corp.) ,  IRIUCHIJIMA Yasuhiro (Nikon Corp.)
資料名： IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop  (IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop)
巻： 2010  ページ： 277-283  発行年： 2010年 
JST資料番号： W0718A  ISSN： 1078-8743  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： トップコート(TC)レス処理への挑戦意欲はおおきいけれども,技術的な困難が山積している。本報告はこのTCレスレジストの採用に踏み切る以前に,知っておかなければならないTCとTCレスレジストの工程の違いと,TCレス処理の特徴について述べる。TCレスレジストが同じレベルのオーバレイ,自動化焦点合わせ,および現行の工場内におけるPORプロセスとしての撮像性能を達成できる。しかも,TCレスレジストはプロセスの複雑度を軽減し,処理能力の向上と材料および設備費とを低減し,オーナシップコストを軽減する。

シソーラス用語： 浸漬塗装 ,  *フォトリソグラフィー ,  半導体プロセス ,  ウエハ【IC】 ,  回路パターン形成 ,  パターン形成 ,  *フォトレジスト ,  *生産性向上 ,  CAM【生産】 ,  原価低減 ,  歩留り ,  設備更新

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 浸漬 ,  リソグラフィー ,  歩留り