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J-GLOBAL ID：201002245588540281   整理番号：10A0187602

ハードディスクドライブ ハードディスクドライブ保護膜用HDD成膜装置の動向

資料名： 月刊トライボロジー  (トライボロジー)
号： 270  ページ： 42-43  発行年： 2010年02月10日 
JST資料番号： L0218A  ISSN： 0914-6121  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ヘッド保護膜用DLC成膜装置を製造したユーテックでは,2000年にその技術をディスク保護膜用に応用したカーボン膜量産対応装置を開発し,10nm未満の成膜に成功し,現在はさらなる薄膜化を可能とした装置を開発・販売している。本報では同社の情報をベースにハードディスクドライブ保護膜用HDD成膜装置の動向について解説した。主な内容項目を次に示した。1)DLCの成膜法:スパッタリングやアーク放電,マイクロ波ECR,パルスレーザー蒸着などにより異なる成膜法の特性,同社ではCVD方式採用,2)小型化:開発した小型DLC成膜装置,3)膜厚:同社のDLC成膜装置では膜厚3nmの極薄膜量産化成功,4)硬度:バイアス電圧による膜硬度の調整,プラズマ中のイオン化率向上による高硬度化実現,5)パーティクルへの対応:CVD成膜法での付着パーティクル対策(電気絶縁した防着筒の設置など),6)成膜速度:同社のカーボン膜量産対応装置の両面成膜試験で一回当たり4秒達成,7)膜厚分布:基板にかけるバイアス電圧と基板付近の電極形状最適化による膜厚分布の均一化など。

シソーラス用語： 駆動機構 ,  *磁気ディスク ,  *保護膜 ,  *薄膜成長 ,  *DLC膜 ,  化学蒸着 ,  硬度 ,  膜厚
準シソーラス用語： *ハードディスクドライブ ,  技術動向

分類 (2件)： 記憶装置  (JC04060F) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： ハードディスクドライブ ,  保護膜 ,  HDD ,  成膜装置 ,  動向