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J-GLOBAL ID：201002245739884115   整理番号：10A1608849

電着Pt_100-x-yNi_xPd_y薄膜上の酸素還元反応

Oxygen reduction reaction on electrodeposited Pt_100-x-y Ni _x Pd _y thin films

著者 (5件)： HWANG Sun-mi (Materials Sci. and Engineering Lab., National Inst. of Standards and Technol., 100 Bureau Drive, Mail Stop 8551 ...) ,  HWANG Sun-mi (School of Chemical and Biological Engineering, Seoul National Univ., San 56-1, Sillim-dong, Gwanak-gu, Seoul 151-744 ...) ,  LEE Chang Hwa (Materials Sci. and Engineering Lab., National Inst. of Standards and Technol., 100 Bureau Drive, Mail Stop 8551 ...) ,  KIM Jae Jeong (School of Chemical and Biological Engineering, Seoul National Univ., San 56-1, Sillim-dong, Gwanak-gu, Seoul 151-744 ...) ,  MOFFAT Thomas P. (Materials Sci. and Engineering Lab., National Inst. of Standards and Technol., 100 Bureau Drive, Mail Stop 8551 ...)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 55  号： 28  ページ： 8938-8946  発行年： 2010年12月01日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 一連のPt_100-x-yNi_xPd_y三元合金上での酸素還元反応(ORR)の反応動力学を調べた。アンダーポテンシャル/オーバーポテンシャル反応の組合せを含む電着により,膜を生成した。PtリッチPt_100-x-yNi_xPd_y膜(x<0.65)では,アンダーポテンシャル下でNi共電着が生じる一方,Niリッチ膜(x>0.65)では,オーバーポテンシャル下で電着が進行した。NiリッチPt_100-x-yNi_xPd_y薄膜上ORR反応動力学の回転円盤電極(RDE)測定で,同じPt質量含量のPt膜と比べ,最大約6.5倍の触媒活性増強を明らかにした。半分以上の触媒活性獲得は,Ni脱合金化による表面積増大に起因した。H_upd電荷に基づく表面積正規化で,2未満の値まで増強因子を減らした。ORR最大活性三元合金膜はPt₂₅Ni₇₃Pd₂だった。Pt,Pt₂₀Ni₈₀,Pt₂₅Ni₇₃Pd₂薄膜上のORR比較では,三元合金の1.6と比べ,二元合金は3.0までのH_upd正規化ORR増強因子を有し,最も活性であることを示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *金属薄膜 ,  *三元合金 ,  *白金合金 ,  *ニッケル含有合金 ,  *パラジウム含有合金 ,  *電着 ,  電極触媒 ,  *還元 ,  反応速度論 ,  アンダポテンシャル電着 ,  過電圧 ,  円盤電極 ,  触媒活性 ,  脱金属 ,  表面積
準シソーラス用語： 回転円盤電極 ,  *酸素還元反応 ,  脱合金 ,  反応動力学

分類 (3件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  非金属化合物  (CD01070R)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電着 ,  薄膜 ,  酸素還元反応