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J-GLOBAL ID：201002245828562741   整理番号：10A0108851

Coを含む超硬タングステンカーバイド基板上へのCVDダイアモンド膜およびDLC膜の摩擦挙動と切断性能

Study on tribological behavior and cutting performance of CVD diamond and DLC films on Co-cemented tungsten carbide substrates

著者 (3件)： ZHANG Dongcan (School of Mechanical Engineering, Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai 200240, CHN) ,  SHEN Bin (School of Mechanical Engineering, Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai 200240, CHN) ,  SUN Fanghong (School of Mechanical Engineering, Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai 200240, CHN)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 256  号： 8  ページ： 2479-2489  発行年： 2010年02月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ホットフィラメント化学蒸着(HFCVD)とグラファイトカソードを使用した真空アーク放電を用いて,Coを含む超硬タングステンカーバイド(WC-Co)の上にダイアモンドおよびダイアモンドライクカーボン(DLC)薄膜を作製し,その摩擦特性を評価した。さらに,切断性能を評価するため比較切削試験を行った。また,EDX,SEMおよびXRD,ラマン分光および3次元表面トポグラフィを用いてそれぞれの膜を評価した。さらに,粘着性を評価するためロックウェルCくぼみ試験も行った。いろいろなコンタクトを用いて得られた摩擦係数曲線は類似の挙動を示した。ある条件化ではDLC膜はHFCVDダイアモンド膜より小さな安定した摩擦係数を示した。切断性能試験の結果も示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *ダイヤモンド ,  *蒸着膜 ,  アーク放電 ,  *DLC膜 ,  炭素電極 ,  炭化タングステン ,  基板 ,  *摩擦 ,  *切削
準シソーラス用語： CVD【化学蒸着】 ,  タングステンカーバイド

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  潤滑一般  (QB02010S)

タイトルに関連する用語 (8件)： CO ,  タングステンカーバイド ,  CVD ,  ダイアモンド膜 ,  DLC膜 ,  摩擦 ,  挙動 ,  切断性能