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J-GLOBAL ID：201002246044622787   整理番号：10A0952615

直接加熱するストリップ型の電子銃の電子ビームに対するフィラメント加熱電流の効果

Effect of filament heating current on electron beam of directly heated strip-type electron gun

著者 (3件)： SAHU G.k. (Laser & Plasma Technol. Div., Bhabha Atomic Res. Centre, Trombay, Mumbai 400 085, IND) ,  BARUAH S. (Laser & Plasma Technol. Div., Bhabha Atomic Res. Centre, Trombay, Mumbai 400 085, IND) ,  THAKUR K.b. (Laser & Plasma Technol. Div., Bhabha Atomic Res. Centre, Trombay, Mumbai 400 085, IND)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 85  号： 2  ページ： 236-244  発行年： 2010年08月20日 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大きい基板を扱える電子ビーム-物理蒸着(EB-PVD)法が金属産業で良く確立されており,大きいターゲット面積をカバーするのに軸対称電子銃,あるいは多数のペンシル銃を掃引することが日常的に使われている。これら方法における電流密度の非一様性はかなりの程度ストリップ型の電子銃を使って解決できる。本論文では,AC加熱ストリップ型電子銃を使って大きいターゲット面積をカバーすることを提案した。フィラメント交流によって発生する磁場はビームをフィラメント長と平行な方向で振動させ,従ってビームを掃引するため外部電場あるいは磁場をかける必要がなくなる。フィラメントが有限が長さのため生じるストリップ電子ビーム内部での電流密度の非一様性は,活性なフィラメントの両端にダミーフィラメントを使えば減少する。これら結果は電子トラジェクトリーシミュレーションにより確かめた。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *電子ビーム ,  *電子銃 ,  *電子ビーム蒸着 ,  基板 ,  電流密度 ,  ターゲット ,  磁場効果 ,  フィラメント ,  トラジェクトリー

分類 (2件)： 電子源,イオン源  (BD02020U) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 直接加熱 ,  ストリップ ,  電子銃 ,  電子ビーム ,  フィラメント