文献

J-GLOBAL ID：201002246598796493   整理番号：10A0296286

チタンの局所拡散ドーピングを用いて製作したニオブ酸リチウム上の低損失リッジ導波路

Low-loss ridge waveguides on lithium niobate fabricated by local diffusion doping with titanium

著者 (3件)： HU H. (Univ. Paderborn, Paderborn, DEU) ,  RICKEN R. (Univ. Paderborn, Paderborn, DEU) ,  SOHLER W. (Univ. Paderborn, Paderborn, DEU)
資料名： Applied Physics. B. Lasers and Optics  (Applied Physics. B. Lasers and Optics)
巻： 98  号： 4  ページ： 677-679  発行年： 2010年03月 
JST資料番号： E0501B  ISSN： 0946-2171  CODEN： APBOEM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ニオブ酸リチウムを用いた局所ドープリッジ導波路の新しい製造工程とその光学特性を報告する。新たに開発した自己整合フォトリソグラフィー工程を使ってマイクロメートル幅のニオブ酸リチウムリッジ上のフォトレジスト層だけを除去し,続くTiコーティングとフォトレジストリフトオフを用いてTiの局所ドーピングを達成した。この加工順序ではTiの内方拡散が外方拡散よりも優勢になった。高温拡散によりリッジ壁が平滑化され,驚異的に低い伝送損失を得ることができた。9μm幅で6.5μm高さのリッジにおけるTE偏光での伝送損失は0.05dB/cmであった。TM偏光での損失は0.36dB/cmに止まった。その理由は不明確であるが,リッジ方向のLi₂Oの不均一な外方拡散によると想定される。この低損失リッジ導波路は各種変調器や非線形デバイスへの応用を期待できる。

シソーラス用語： *ニオブ酸リチウム ,  チタン ,  ドーピング ,  光導波路 ,  *自己整合 ,  *フォトリソグラフィー ,  パターン形成 ,  フォトレジスト ,  微細加工 ,  *伝送損失 ,  TEモード ,  TMモード ,  熱拡散
準シソーラス用語： *リッジ導波路 ,  リフトオフ

分類 (2件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： チタン ,  拡散 ,  ドーピング ,  製作 ,  ニオブ酸リチウム ,  低損失 ,  リッジ導波路