文献
J-GLOBAL ID:201002246659014280   整理番号:10A0780918

LaxTayデュアルドープHfON誘電体による金属酸化物半導体キャパシタの電荷トラップと電流導電機構

Charge trapping and current-conduction mechanisms of metal-oxide-semiconductor capacitors with La x Ta y dual-doped HfON dielectrics
著者 (5件):
資料名:
巻: 54  号: 10  ページ: 1197-1203  発行年: 2010年10月 
JST資料番号: H0225A  ISSN: 0038-1101  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
LaxTayデュアルドープHfON誘電体による金属酸化物半導体(MOS)キャパシタにおける電荷トラップと関連電流導電機構を種々のポスト沈着アニーリング(PDA)のもとで調査した。この結果により,HfON誘電体へのLaxTayのとりこみにより,電気的および信頼性特性を強化することを示した。その特性には,等価酸化膜厚(EOT),ストレス誘起リーク電流(SILC)およびトラップエネルギーレベルを含んでいる。ゲート誘電体バルクにおける大きな正電荷生成に関する機構は,LaxTayデュアルドープHfON誘電体に影響されることを示した。C-V測定の結果は,多くの負電荷が,LaxTayデュアルドープHfON誘電体のためにPDA温度の上昇により誘起されることを示した。種々の誘電体を通して電荷電流輸送機構を種々の温度にて電流-電圧(I-V)測定により解析した。低-,中-,および高電界におけるHfLaTaON誘電体の電流導電機構をSchottky放出(SE),Frenkel-Poole放出(F-P),およびFowler-Nordheim放出(F-N)によりそれぞれ示した。HfLaTaON誘電体におけるFrenkel-Poole伝導に含まれる低トラップエネルギーレベル(Φtrap)を約0.142eVと推定した。HfLaTaON誘電体にて大量に生成された正電荷が得られたが,これらのHfLaTaON誘電体における正電荷のΦtrapは,HfON誘電体と比較して浅かった。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
LCR部品  ,  誘電体一般 

前のページに戻る