文献
J-GLOBAL ID:201002247058883024   整理番号:10A0310339

低放射性V合金のLi雰囲気下での中性子照射効果

著者 (4件):
資料名:
巻: 2010  ページ: ROMBUNNO.L49  発行年: 2010年03月09日 
JST資料番号: G0939B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
低放射性V合金のレーザー溶接材に対してLi雰囲気下で中性子を照射し,内部組織の電子顕微鏡観察を実施した。これまで実施した真空或いはHe雰囲気下での照射では,特に溶融部において照射により形成される微小なチタン酸化物により硬度が上昇するが,Li雰囲気下ではチタン酸化物の形成が抑制されることが明らかにされた。(著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
溶接技術 

前のページに戻る