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J-GLOBAL ID：201002247492802512   整理番号：10A0951438

OOHラジカルとグアニンとの反応 8-オキソグアニン及び他の生成物の生成機構

Reactions of the OOH radical with guanine: Mechanisms of formation of 8-oxoguanine and other products
著者 (3件)：
KUMAR Nagendra

KUMAR Nagendra について

(Dep. of Physics, Banaras Hindu Univ., Varanasi 221 005, IND)

Dep. of Physics, Banaras Hindu Univ., Varanasi 221 005, IND について

, 
SHUKLA P.k.

SHUKLA P.k. について

(Dep. of Physics, Assam Univ., Silchar 788 011, IND)

Dep. of Physics, Assam Univ., Silchar 788 011, IND について

, 
MISHRA P.c.

MISHRA P.c. について

(Dep. of Physics, Banaras Hindu Univ., Varanasi 221 005, IND)

Dep. of Physics, Banaras Hindu Univ., Varanasi 221 005, IND について


資料名：
Chemical Physics  (Chemical Physics)

Chemical Physics について


巻： 375  号： 1  ページ： 118-129  発行年： 2010年09月14日 
JST資料番号： D0167B  ISSN： 0301-0104  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*ヒドロペルオキシラジカル

ヒドロペルオキシラジカル について

, 
*ヒドロキシ化合物

ヒドロキシ化合物 について

, 
*窒素複素環化合物

窒素複素環化合物 について

, 
*反応機構

反応機構 について

, 
反応生成物

反応生成物 について

, 
計算機コード

計算機コード について

, 
密度汎関数法

密度汎関数法 について

, 
分極

分極 について

, 
連続体

連続体 について

, 
溶媒和

溶媒和 について

, 
二酸化炭素

二酸化炭素 について

, 
*ラジカル反応

ラジカル反応 について

, 
突然変異

突然変異 について

, 
ラクタム

ラクタム について

, 
ウレア化合物

ウレア化合物 について


準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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B3LYP法

B3LYP法 について


分類 (4件)：
分類
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原子とラジカルの反応 
(CB06030C)

原子とラジカルの反応 について

,  プリン,プテリジン 
(CF07105E)

プリン,プテリジン について

,  分子と光子の相互作用 
(BH06120R)

分子と光子の相互作用 について

,  光化学反応,ラジカル反応 
(CF02090A)

光化学反応,ラジカル反応 について

タイトルに関連する用語 (3件)：
タイトルに関連する用語
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グアニン

グアニン について

, 
8-オキソグアニン

8-オキソグアニン について

, 
生成物

生成物 について


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