H終端ダイヤモンド表面のNO<sub>2</sub>ガスの吸着性と正孔濃度に及ぼすその強い影響

KUBOVIC Michal; KASU Makoto; KAGESHIMA Hiroyuki

文献

J-GLOBAL ID：201002248154226278 整理番号：10A0164470

H終端ダイヤモンド表面のNO₂ガスの吸着性と正孔濃度に及ぼすその強い影響

Sorption properties of NO₂ gas and its strong influence on hole concentration of H-terminated diamond surfaces

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資料名：
巻： 96 号： 5 ページ： 052101 発行年： 2010年02月01日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

異なる濃度のNO₂ガスに曝露中のH終端ダイヤモンド表面の正孔濃度を調べた。ダイヤモンド表面のNO₂分子の吸着時に正孔濃度が増加し,曝露を停止しNO₂分子が表面から脱離すると低下した。正孔濃度の増加はNO₂濃度に直接関係し得る。空気中で通常測定される正孔濃度は空気中の低NO₂濃度(~20ppb)が原因であり,NO₂濃度が高くなると,最高正孔濃度がさらに増加する。正孔濃度の時間発展をElovich吸着モデルを用いて解析した。Ritchieモデルに基づくさらなる解析は,吸着したNO₂分子が二種類の表面部位を占有することを示した。温度依存測定は0.1~0.2eVの低い活性化エネルギーを示した。(翻訳著者抄録)

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物理的手法を用いた吸着の研究

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H終端ダイヤモンド表面のNO2ガスの吸着性と正孔濃度に及ぼすその強い影響

H終端ダイヤモンド表面のNO₂ガスの吸着性と正孔濃度に及ぼすその強い影響