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J-GLOBAL ID：201002248516284166   整理番号：10A0362401

ダイポール照明に基づくリソグラフィー投影光学系の奇数収差を特性評価するための測定法

Measurement technique for characterizing odd aberration of lithographic projection optics based on dipole illumination

著者 (7件)： PENG Bo (Information Optics Lab., Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai 201800, CHN) ,  PENG Bo (Graduate School of the Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100039, CHN) ,  WANG Xiangzhao (Information Optics Lab., Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai 201800, CHN) ,  WANG Xiangzhao (Graduate School of the Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100039, CHN) ,  QIU Zicheng (Information Optics Lab., Shanghai Inst. of Optics and Fine Mechanics, Chinese Acad. of Sciences, Shanghai 201800, CHN) ,  QIU Zicheng (Graduate School of the Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100039, CHN) ,  YUAN Qiongyan (KLA-Tencor China, Shanghai 201203, CHN)
資料名： Optics Communications  (Optics Communications)
巻： 283  号： 11  ページ： 2309-2317  発行年： 2010年06月01日 
JST資料番号： A0678B  ISSN： 0030-4018  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リソグラフィー投影光学系の奇数収差を測定するためのダイポール照明に基づく測定法を提案した。この方法の場合の奇数収差は多重照明配置の画像の変位から抽出する。測定精度に及ぼす照明分布の影響を理論解析して示した。ダイポール照明を利用すると,測定精度を決定する画像変位の変化範囲が拡大する。リソグラフィーシミュレータPROLITHを使用して,通常の照明とダイポール照明下の奇数収差の測定精度を比較した。シミュレーションの結果,ダイポール照明を使用すると,奇数収差の測定精度は大幅に向上することが分かった。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *投影法【図法】 ,  *照明 ,  *光学系 ,  *収差 ,  キャラクタリゼーション ,  奇数 ,  双極子 ,  多重化 ,  照度分布 ,  数値解析 ,  画像 ,  変位 ,  シミュレータ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： ダイポール照明 ,  リソグラフィー ,  投影光学系 ,  奇数 ,  収差 ,  特性評価 ,  測定法