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J-GLOBAL ID：201002248589180873   整理番号：10A1126635

撮像素子の微細化技術の現状と将来展望 イメージセンサの3次元波動光学シミュレーション

著者 (1件)： 武藤秀樹 (リンク・リサーチ)
資料名： 光技術コンタクト  (Optical and Electro-Optical Engineering Contact)
巻： 48  号： 10  ページ： 469-474  発行年： 2010年10月20日 
JST資料番号： S0624A  ISSN： 0913-7289  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： イメージセンサのセルサイズの微細化が進むにつれてセル設計を行う上で波動光学計算が重要な解析法になりつつある。本報では,波動光学計算に使われるFDTD法と局所境界要素法について,原理といくつかの観点からみた優劣について説明したのち,解析例として,1)3次元FDTD法によるIT-CCD層内レンズ構造の感度およびスミア特性の解析,2)局所境界要素法によるCMOSイメージセンサ光導波路構造(導波路外側物質は,空気,アルミ,SiO₂,タングステン)の集光率とクロストークの解析,について紹介した。

シソーラス用語： *イメージセンサ ,  *有限差分時間領域法 ,  *境界要素法 ,  波動光学 ,  シミュレーション ,  光導波路 ,  クロストーク ,  画像ぼけ ,  電荷結合素子 ,  配置設計
準シソーラス用語： CMOSイメージセンサ ,  *FDTD法 ,  *局所境界要素法 ,  三次元シミュレーション ,  スミア ,  CCD ,  セル設計

分類 (2件)： 電荷移送デバイス  (NC03130E) ,  写真機とその付属品  (QF05030V)

引用文献 (15件)：

• H. Mutoh,“Simulation for 3-dimensional optical and electrical analysis of CCD,” IEEE 73-ans. Electron Devices, 44, pp. 1604-1610 (Oct.1997)
• H. Mutoh,“Optical simulation for image sensors by wave analysis,’ Proc.1997 IEEE Workshop on CCDs and AISs (1997)
• H. Mutoh,“3-D wave optical simulation of inner-layer lens structures,” Proc.1999 IEEE Workshop on CCDs and AISs (1999)
• 武藤秀樹:“層内レンズ構造の3次元波動光学シミュレーション”, 映情学誌, 54, 2, pp. 210-215(2000)
• 武藤秀樹:“FDTD法によるイメージセンサの3次元波動光学シミュレーション”, 2001年映情学年次大, pp. 356-357(2001)

タイトルに関連する用語 (8件)： 撮像素子 ,  微細化 ,  現状 ,  将来展望 ,  イメージセンサ ,  3次元 ,  波動光学 ,  シミュレーション