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J-GLOBAL ID:201002248845560522   整理番号:10A1252022

プロセッシング制御によりパルスレーザー蒸着したCuIn0.7Ga0.3Se2薄膜の増強した電気特性

Enhanced electrical properties of pulsed laser-deposited CuIn0.7Ga0.3Se2 thin films via processing control
著者 (3件):
資料名:
巻: 84  号: 12  ページ: 2213-2218  発行年: 2010年12月 
JST資料番号: E0099A  ISSN: 0038-092X  CODEN: SRENA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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多結晶CuIn0.7Ga0.3Se2の薄膜をソーダライムガラスの基板上に,レーザーエネルギーや繰り返し率,基板温度などの種々のパラメータを変えた,パルスレーザー蒸着(PLD)により,用意した。室温で純粋な相のCIGS薄膜を得るにはレーザーエネルギーに制限があること,すなわち300mJ以下,を確認した。特に,室温においても,膜には別な結晶CIGS相が観察された。膜の結晶性は,FWHMが0.65度から0.54度に減ることが示すように,基板温度が増すと改善した。基板温度により,少しだけCuの多いCu2-xSe相を持った表面が存在することをラマンスペクトルにより確認した。最適化したCIGS膜の高い基板温度での,改善した電気特性,すなわち,キャリア濃度~1018cm-3,抵抗率10-1Ωcm,は高度に結晶化した薄膜,Cu2-xSe相の存在,基板から薄膜へのNaの拡散の潜在的寄与の結果であると考えられる。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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薄膜一般 
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