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J-GLOBAL ID：201002249179321433   整理番号：10A0163683

空調設備における水質管理と水処理(5)用途別の水質管理と水処理 特殊用途 2-クリーンルームの空調設備における純水の用途

Usage of Pure Water in Air Conditioning Facilities in Clean Room

著者 (1件)： 大信紀子 (オルガノ 開発セ)
資料名： 空気調和・衛生工学
巻： 84  号： 2  ページ： 151-154  発行年： 2010年02月05日 
JST資料番号： F0331A  ISSN： 0386-4081  CODEN： KCEKA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体製造用クリーンルームの環境が製品の品質に与える影響は極めて大きい。制御すべき環境因子としては温度,湿度,清浄度(微粒子,ガス状物質),静電気,振動などがあげられ,最適な状態が維持されている。本稿では,まず純水・超純水の製造方法について述べ,さらにクリーンルームの空調設備のうち,純水を用いるエアワッシャ(ガス状物質対策)と加湿設備(温湿度調整および静電気対策)についてとりあげる。(著者抄録)

シソーラス用語： 水質管理 ,  水処理 ,  *クリーンルーム ,  製造 ,  *空気調和装置 ,  加湿器 ,  *純水 ,  空気シャワー
準シソーラス用語： 加湿設備 ,  *空調設備 ,  半導体製造

分類 (1件)： 空気浄化  (PC02060X)

引用文献 (4件)：

• 廣田住友. 半導体プロセスにおける化学汚染とその対策. 1997
• 稲葉仁. クリーンルームにおける化学汚染防止対策技術. IDEMA Japan News. 2004, 62
• 早川一也監修. 新クリーンルームの運転・管理・清浄化ハンドブック. 1993
• 逸見ひろみ. ガス精製方法, 空気浄化方法, 及びそれらの装置. 特開平10-272333

タイトルに関連する用語 (6件)： 空調設備 ,  水質管理 ,  水処理 ,  用途 ,  クリーンルーム ,  純水