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J-GLOBAL ID：201002249430188306   整理番号：10A0467912

Hf,Ce共添加ニオブ酸リチウム結晶の成長と光学特性

Growth and optical properties of Hf,Ce co-doped lithium niobate crystals

著者 (7件)： ZHOU Wei (School of Physics Sci. and Engineering, Sun Yat-Sen Univ., XinGang West Street 135, Guangzhou 510275, CHN) ,  WANG Biao (School of Physics Sci. and Engineering, Sun Yat-Sen Univ., XinGang West Street 135, Guangzhou 510275, CHN) ,  NIE Yiran (School of Astronautics, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN) ,  XU Xiulan (School of Physics Sci. and Engineering, Sun Yat-Sen Univ., XinGang West Street 135, Guangzhou 510275, CHN) ,  YUAN Wei (School of Astronautics, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN) ,  MA Decai (School of Astronautics, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN) ,  PAN Yuanyuan (School of Information Sci. and Technol., Zhanjiang Normal Univ., Zhanjiang 524048, CHN)
資料名： Optik  (Optik)
巻： 121  号： 10  ページ： 914-917  発行年： 2010年06月 
JST資料番号： D0251A  ISSN： 0030-4026  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本文では,種々のHfO₂濃度をもつ一連のHf,Ce共添加ニオブ酸リチウム結晶をCzochralski法により成長させた。その結晶の欠陥構造を調査するため,紫外-可視吸収スペクトルと赤外透過スペクトルを測定した。透過させた白斑の歪法により,光学損傷耐性を測定した。その結果は,Hfのドーピング濃度が4mol%以上の場合,Hf:Ce:LiNO₃の光学損傷耐性が大きく改善されることを示した。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ハフニウム ,  セリウム ,  *ニオブ酸リチウム ,  ドーピング ,  Czochralski法 ,  光学的性質 ,  *結晶成長 ,  レーザ損傷 ,  スペクトル ,  光透過 ,  光吸収 ,  *格子欠陥

分類 (2件)： 酸化物の結晶成長  (BK13050I) ,  その他の無機化合物の格子欠陥  (BK12050B)

タイトルに関連する用語 (7件)： HF ,  Ce ,  共添加 ,  ニオブ酸リチウム ,  結晶 ,  成長 ,  光学特性