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J-GLOBAL ID:201002249798851552   整理番号:10A0988548

パワー半導体のオンウエーハ測定技術〈B1505A Power Device Analyzer/Curve Tracer〉

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資料名:
巻: 38  号: 11  ページ: 43-49  発行年: 2010年10月05日 
JST資料番号: S0852A  ISSN: 0385-9886  CODEN: KEGIDR  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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電力変換効率の向上には,低オン抵抗,高耐圧低リーク等の特性が要求される。従来のSi主材料では,オン抵抗や耐圧性能での改良の余地が少ない。代わりに,SiC,GaN等が候補となっており,開発の速度を上げるにはウエーハレベルで特性を評価する必要がある。先ず,半導体のウエーハレベルでの評価の課題について述べ,オンウエーハ測定技術につき,当社の「B1505A Power Device Analyser/Curve Tracer」が,ウエーハレベルでの評価のためにプローバーとの接続を考慮して開発されたこと,プローバーと接続しての測定・評価の場合の課題や評価の内容等を,大電流測定,高電圧測定,高電圧容量測定の場合で解説した。
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分類 (1件):
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固体デバイス計測・試験・信頼性 
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