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J-GLOBAL ID：201002249803876038   整理番号：10A1529990

Mo/Si多層構造中のB₄C障壁層の熱による分解

Thermally induced decomposition of B₄C barrier layers in Mo/Si multilayer structures

著者 (5件)： BRUIJN S. ,  VAN DE KRUIJS R.w.e. ,  YAKSHIN A.e. ,  ZOETHOUT E. ,  BIJKERK F.
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 205  号： 7  ページ： 2469-2473  発行年： 2010年12月25日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二つの界面のいずれかにB₄C拡散障壁層を含むMo/Si多層薄層の熱安定性に及ぼすMo結晶状態(擬非晶質または結晶)の影響を調べた。その結果,この多層はMo層が結晶相を含む場合よりも非晶質を含む方が安定であった。これはSi₃N₄障壁層を使用する場合と対照的であった。X線回折,X線反射,X線光電子分光法を使用してこの相違が,B₄Cの分解と,それに続くBのMo中への拡散に起因することを明らかにした。熱力学的にMo_xB_y系化合物はホウ素原子はMo層と反応してMo_xB_y層を形成し,これが多層の熱安定性を改善する。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 基板 ,  *ケイ素 ,  *電子ビーム蒸着 ,  *多層構造 ,  *モリブデン ,  *界面 ,  *拡散障壁 ,  被覆層 ,  *炭化ホウ素 ,  熱安定性 ,  結晶度 ,  非晶質 ,  *熱分解 ,  蒸着膜 ,  薄膜 ,  結晶構造 ,  膜厚
準シソーラス用語： 結晶性 ,  障壁層

分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (5件)： Mo ,  Si ,  多層構造 ,  障壁層 ,  分解