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J-GLOBAL ID：201002249950505045   整理番号：10A0850077

アブソーバ形状変動とそれらによるリソグラフィープロセスへの影響に関する厳密EMFシミュレーション

Rigorous EMF simulation of absorber shape variations and their impact on lithographic processes

著者 (7件)： RAHIMI Z. (Fraunhofer Inst. for Integrated Systems and Device Technol., Erlangen, DEU) ,  RAHIMI Z. (Eraangen Graduate School in Advanced Optical Technol. (SAOT)) ,  ERDMANN A. (Fraunhofer Inst. for Integrated Systems and Device Technol., Erlangen, DEU) ,  ERDMANN A. (Eraangen Graduate School in Advanced Optical Technol. (SAOT)) ,  EVANSCHITZKY P. (Fraunhofer Inst. for Integrated Systems and Device Technol., Erlangen, DEU) ,  PFLAUM C. (Erlangen-Nuremberg Univ., Erlangen, DEU) ,  PFLAUM C. (Eraangen Graduate School in Advanced Optical Technol. (SAOT))
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7545  ページ： 75450C.1-75450C.10  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 複雑な形状のリソグラフィーマスクによる光回折をモデル化するためのFIT(有限積分法)シミュレータを提案した。リソグラフィープロセス最適化のために,光学リソグラフィーマスクによる光回折の厳密なEMF(電磁場)シミュレーションが求められ,そのための様々な手法が提案されてきた。エッチングプロセスを通して作られる実際のフォトマスクのアブソーバ形状は,ウエハ上の望ましいパターンからずれてしまう。このような場合,パターンサイズの小型化や画像システムの解像度向上に伴って既存手法の限界が増大する。FIT法に固有の特徴が,複雑な形状での,より正確で厳密なEMFシミュレーションを可能にする。本技法は,その並列化能力により,高速EMFシミュレーションや大規模三次元問題にも向いている。減衰PSM(位相シフトマスク)に関するシミュレーション結果は提案技法の有効性を示した。

シソーラス用語： *計算機シミュレーション ,  電磁場解析 ,  *フォトリソグラフィー ,  フォトマスク ,  数値積分 ,  Maxwell方程式
準シソーラス用語： FIT法 ,  フォトマスクパターン ,  *電磁シミュレーション

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： アブソーバ ,  リソグラフィー ,  プロセス ,  EMF ,  シミュレーション