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J-GLOBAL ID：201002250232687915   整理番号：10A0299546

エラストマ膜のリフトオフによるグラフェン,カーボンナノチューブ,フラーレンのステンシル版

Stenciling Graphene, Carbon Nanotubes, and Fullerenes Using Elastomeric Lift-Off Membranes

著者 (7件)： WASSEI Jonathan K. (Univ. California Los Angeles, California, USA) ,  TUNG Vincent C. (Univ. California Los Angeles, California, USA) ,  JONAS Steven J. (Univ. California Los Angeles, California, USA) ,  CHA Kitty (Univ. California Los Angeles, California, USA) ,  DUNN Bruce S. (Univ. California Los Angeles, California, USA) ,  YANG Yang (Univ. California Los Angeles, California, USA) ,  KANER Richard B. (Univ. California Los Angeles, California, USA)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 22  号： 8  ページ： 897-901  発行年： 2010年02月23日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ケイ素基板表面にフォトレジスト膜を担持,パターン形成後,PDMS薄膜を積層した(A)。リフトオフによりAを他のSiO₂/ケイ素ウエハー上に移設し,フェニル-C₆₀酪酸メチル(PCBM)のヒドラジン溶液,カーボンナノチューブ(CNT)または化学修飾グラフェン(CGG)のヒドラジン懸濁液(B)をスピンコート後,Aをリフトオフ除去してB単分子層パターンを形成した。光学顕微鏡,原子間力顕微鏡,走査電子顕微鏡によりキャラクタリゼーションを行った。

シソーラス用語： ゴム ,  高分子膜 ,  微細加工 ,  *ステンシル版 ,  *グラファイト ,  *カーボンナノチューブ ,  *フラーレン ,  ウエハ【IC】 ,  フォトレジスト ,  *パターン形成 ,  ポリジメチルシロキサン ,  薄膜 ,  積層構造 ,  酸化ケイ素 ,  ヒドラジン ,  懸濁液 ,  スピンコーティング ,  単分子層 ,  光学顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  走査電子顕微鏡 ,  グラフェン
準シソーラス用語： PCBM ,  PDMS【重合体】 ,  エラストマ ,  ケイ素基板 ,  リフトオフ法

分類 (4件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  固-気界面一般  (CB12041H)

タイトルに関連する用語 (6件)： エラストマ ,  リフトオフ ,  グラフェン ,  カーボンナノチューブ ,  フラーレン ,  ステンシル版