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J-GLOBAL ID：201002250337069346   整理番号：10A0636538

よく定義されたルテニウム(I)及びオスミウム(I)メタロラジカルへのアクセス

Access to Well-Defined Ruthenium(I) and Osmium(I) Metalloradicals

著者 (3件)： TAKAOKA Ayumi (Massachusetts Inst. of Technol., MA, USA) ,  GERBER Laura C. H. (Massachusetts Inst. of Technol., MA, USA) ,  PETERS Jonas C. (Massachusetts Inst. of Technol., MA, USA)
資料名： Angewandte Chemie. International Edition  (Angewandte Chemie. International Edition)
巻： 49  号： 24  ページ： 4088-4091  発行年： 2010年 
JST資料番号： H0127B  ISSN： 1433-7851  CODEN： ACIEAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： [(SiP^iPr₃)MCl](SiP^iPr₃=(2-(iPr)₂PC₆H₄)₃Si,M=Ru(1a),Os(2a))をKC₈で化学的に還元することにより,単核Ru^I及びOs^I錯体[(SiP^iPr₃)M(N₂)](M=Ru(3a),Os(4a))を得た。ESRスペクトル,X線結晶構造解析及び密度汎関数法計算から,3aと4aはスピン密度が金属中心に集中したS=1/2のメタロラジカルであることが分かった。3aと4aのN₂配位子は解離しやすく,1当量のPMe₃を加えるとN₂がPMe₃に置き換わった錯体を生成した。また,3aと4aは高い1電子ないし2電子酸化還元反応性を示し,例えばpara-CF₃置換フェニルアジドとの反応では[(SiP^iPr₃)M^III(NAr)](Ar=C₆H₄CF₃,M=Ru(5a),Os(6a))が生成した。スピン密度分布解析から,5a,6aは稀なイミジルラジカル性を有するラジカルであることが分かった。

シソーラス用語： *ルテニウム錯体 ,  *オスミウム錯体 ,  *二窒素錯体 ,  有機リン化合物 ,  ホスフィン錯体 ,  有機ケイ素化合物 ,  ラジカル ,  化学合成 ,  *分子構造 ,  結晶構造 ,  X線構造解析 ,  ESR【磁気共鳴】 ,  スピン密度 ,  *密度汎関数法 ,  イミド錯体 ,  サイクリックボルタンメトリー ,  酸化還元反応 ,  電気化学的挙動 ,  反応性 ,  配位子交換

分類 (4件)： 白金族元素の錯体  (CE01100E) ,  遷移金属元素(鉄族元素を除く)の錯体の結晶構造  (BK09030X) ,  錯体のEPR  (BM07025L) ,  分子の電子構造  (BH05010Q)

物質索引 (1件)： トリス[2-(ジイソプロピルホスフィノ)フェニル]シラン

タイトルに関連する用語 (4件)： 定義 ,  ルテニウム ,  オスミウム ,  アクセス