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J-GLOBAL ID：201002250396281200   整理番号：10A0109285

表面物理化学的修飾によるテオフィリン無水物の高湿度下での安定性改善

Improvement of theophylline anhydrate stability at high humidity by surface-physicochemical modification

著者 (2件)： OTSUKA Makoto (Res. Inst. of Pharmaceutical Sciences, Fac. of Pharmacy, Musashino Univ., 1-1-20 Shinmachi, Nishi-Tokyo, 202-8585, JPN) ,  ISHII Mika (Kobe Pharmaceutical Univ., Motoyama-Kitamachi, Kobe, 658-0001, JPN)
資料名： Colloids and Surfaces. B. Biointerfaces  (Colloids and Surfaces. B. Biointerfaces)
巻： 76  号： 1  ページ： 158-163  発行年： 2010年03月01日 
JST資料番号： W0541A  ISSN： 0927-7765  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高湿高温でのテオフィリン無水物(THA)の安定性を改善するため,THA表面をn-ブタノールの吸着によって修飾し,相転移速度及び溶解速度を調べた。水和速度は示差走査熱量測定を用いて算出した。試料は種々の飽和塩溶液中,30.40及び50°Cで保存した。溶解試験は蒸留水中,37°C,100rpmで行った。THA及び表面修飾THA(STHA)の種々の相対湿度(RH)レベル,40°Cでの水和は誘導時間(IP)を含む二次元核成長方程式(Avrami方程式)に従うことが分かった。各RHでのSTHAのIPはTHAのそれより有意に長いが(p<0.05),STHAの水和速度定数kは各RHでのそれと有意に異なることはなかった(p>0.05)。STHAのIPは40及び50°C,93%RHで30°CでのIPより有意に長かった(p<0.05)が,40°Cと50°Cでは有意の違いはなかった。THAとSTHAのkは貯蔵温度(30~50°C)が高くなると増加した。THAとSTHAのkのArrheniusプロットは直線を示した。THA及びSTHAの水和の活性化エネルギーは各々,17.60±1.38及び28.92±5.56J/molであった。THAとSTHAの溶解はHixon-Crowell式に従い,解離速度定数K′は各々0.0306±0.0041及び0.0269±0.0034mg^1/3s^-1(n=3)であった。Copyright 2010 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 酸無水物 ,  *表面改質 ,  安定性 ,  *水和反応 ,  反応速度 ,  レート方程式 ,  *溶解速度 ,  時間 ,  相対湿度 ,  *ラクタム ,  ウレア化合物 ,  脂肪族アルコール
準シソーラス用語： Avrami式 ,  *表面修飾 ,  無水物 ,  誘導時間

分類 (2件)： その他の無触媒反応  (CB06070U) ,  界面化学一般  (CB12010J)

物質索引 (2件)： テオフィリン ,  n-ブタノール

タイトルに関連する用語 (6件)： 表面物理 ,  化学的修飾 ,  テオフィリン ,  無水物 ,  高湿度 ,  安定性